溅射靶材高纯铂靶材生产销售 贵金属高纯铂靶材定制 中诺新材
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商品参数
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商品介绍
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元素 Pt
密度 21.45g/cm3
熔点 1768.4℃
形态规格 可定制
沸点 3825℃
品名
产品编号 6119095
商品介绍




质量管控1

一、全部运行电脑信息化管理系统

      可以随时查询产品状态,生产环节,可通过LOT NO查询到材料编码,材料形态,材料位置,使用设备,操作人员,相关数据,加工时间,经过步骤等。

二、操作规程符合ISO9001国际质量体系的要求

公司实行科学严格的管理制度,生产工艺和操作规程,从产品的研发、生产和销售、服务各个环节都严格确保符合ISO9001国际质量体系的要求。



高纯金

中诺新材(北京)科技有限公司是国内优先的高纯金属材料、特种合金材料,PVD镀膜材料供应商,广泛应用于特种合金熔炼,电子半导体、平板显示、光磁记录介质、太阳能光伏、功能性镀膜等领域。

中诺新材具备坚实的研发和生产能力,已通过ISO9001质量管理体系认证,长期为国家科技攻关项目、高科技产业项目提供优质的产品和服务。

中诺新材凭借先进的技术、专业的服务,以质量求生存、以信誉求发展,为成为世界优质的高纯金属材料、PVD薄膜材料供应商而努力。





高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。

1、粉末冶金法:指钨粉经过成形后,加热到其熔点下的某个温度,通过物质迁移完成致密化的过程,最终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。

2、熔炼法:指将钨原料加热到其熔点以上形成液相,去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程,根据所采用的手段不同,具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。

3、化学气相沉积:指以钨化合物气体(一般为WF6)为钨源,在一定温度下被H2还原,将生成的钨沉积在特定的基底上,沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯(或者制品)的过程。





联系方式
公司名称 中诺新材(北京)科技有限公司
联系卖家 赵艳 (QQ:2850734048)
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地址 北京市海淀区